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极紫外光刻(EUV)在 AI 芯片制造中的工艺,展示一块硅片正被刻蚀出精确图案,背景中有高科技 EUV 设备和激光束。
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极紫外光刻(EUV)在 AI 芯片制造中的工艺,展示一块硅片正被刻蚀出精确图案,背景中有高科技 EUV 设备和激光束。
这张图片展示了在 AI 芯片制造中极紫外光刻(EUV)的工艺过程。画面中,一块硅片正在被刻蚀出精确的图案,背景里是高科技的 EUV 机械和激光束。该工艺涉及到纳米技术和微电子领域的光刻及刻蚀技术。
素材ID:
1036016834
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格式:
JPG
作者:
Johannes
尺寸:
S
1000 x 561px
· 35 x 19cm
· 72dpi
M
2300 x 1292px
· 81 x 45cm
· 72dpi
L
4000 x 2247px
· 33 x 19cm
· 300dpi
F
5824 x 3264px
· 49 x 27cm
· 300dpi
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关键词
蚀刻
微电子学
光刻
纳米技术